杏彩体育app下载:国产替代核心攻坚

　　贸易事件频发背景下，国产替代呼声愈高。刻蚀设备在半导体中的重要性仅次于光刻设备，国产替代刻不容缓。

　　刻蚀是与光刻、薄膜沉积并列的，晶圆制造过程中最重要的三大工艺之一，其对芯片的良品率和产能有很大影响。

　　刻蚀工艺经历了从湿法到干法的演进，干法刻蚀主要分为等离子刻蚀，离子溅射刻蚀，反应离子刻蚀三种。

　　2020年，刻蚀设备在晶圆制造设备市场中的占比超过20%，仅次于光刻机的24%。2021年，全球刻蚀设备市场额为199.2亿美元，同比增长45.6%，2022年预计将达到242亿美元。

　　刻蚀设备市场被外企垄断。2021年，行业TOP3（泛林集团、东京电子、应用材料）占据了行业91%的市场。国内企业中微公司、北方华创、屹唐半导体合计仅占据2.36%。

　　近年来，贸易限制事件频发，海外缺货、断供风险增加，刻蚀设备国产化紧迫性提升，国内刻蚀产业迎来空前发展机遇且规模巨大。2022年1-9月，中国刻蚀设备进口额达30.25亿美元。

　　当前，国内刻蚀产业链已初具雏形。刻蚀设备方面，已有北方华创(002371.SZ)、中微公司(688012.SH)、屹唐股份(未上市)等有一定技术实力的企业。