发布时间:2023-12-08 12:12 来源:杏彩体育app 作者:杏彩体育app手机版
:沉积设备中标份额快速上升到14%,领先于其他国内厂商。进军先进制程,公司逐步成长为薄膜沉积平台型公司。公司IPO募集资金将投资于高端半导体设备扩产项目、先进半导体设备的技术研发与改进项目、ALD设备研发与产业化项目。截至2021年9月,公司在国内外和其他地区已授权专利共计169件,核心技术。”
2.拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线.
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