发布时间:2024-02-07 20:02 来源:杏彩体育app 作者:杏彩体育app手机版
拓荆科技作为国内薄膜沉积行业领军者,其产品线包括离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三大系列。产品已广泛用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂产线。
近期接受调研表示,公司几大产品线都取得了不同程度的进展。其中ALD设备系列产品(包括PE-ALD设备和Thermal-ALD设备,PE-ALD设备)已实现量产,可以沉积SiO2、SiN等介质薄膜材料,Thermal-ALD设备已出货至不同客户端进行验证,可以沉积Al2O3等金属化合物薄膜;SACVD和HDPCVD设备均已实现产业化。
在混合键合设备的进展方面,拓荆科技表示,晶圆对晶圆键合产品(Dione 300)已通过客户验收,并获得了重复订单,芯片对晶圆键合表面预处理产品(Pollux)已出货至客户端验证。键合设备市场规模目前很难量化,潜在市场需求和未来增长空间较大。
从今年上半年的业绩来看,拓荆科技上半年的营收为10.04亿,同比增长91.83%,净利润为1.25亿,同比增长15.22%。拓荆科技表示,公司对下半年还是保持乐观态度,目前工厂基本上已经是满负荷运转,且在手的订单饱满,具体签订单情况要视客户需求而定。
在产能方面,拓荆科技位于沈阳的总部年产能约300-350台套,上海临港一期研发与产业化基地建设厂房改造已经完成并投入使用,开始开展研发和生产相关工作,上海临港二期研发与产业化基地正在建设中,待建成投入使用后,公司每年的总产能约增加一倍。
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